обладает очень высокой удельной емкостью, из-за использования в качестве диэлектрика тонкой оксидной пленки, образованной из вентильного металла электродов (алюминий, тантал, ниобий). Оксидная пленка имеет исключительно высокую электрическую прочность и обладает вентильными свойствами. Толщина слоя лежит в пределах 0,01…1,0 мкм. При напряжении 100 В приложенном к пленке толщиной 0,01 мкм создается напряженность электрического поля, равная 107 В/см, что в соответствии с ионной теорией кристаллов приближается к пределу теоретической прочности